潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿(mǎn)足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線(xiàn)性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車(chē)間，這種車(chē)間溫度不宜超過(guò)25度，濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)濕度范圍為35—45%。

氣壓規(guī)定

對(duì)于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則：

1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。

2.潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。

壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過(guò)潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。

無(wú)塵車(chē)間不同級(jí)別空氣潔凈度的空氣過(guò)濾器的選用、布置要點(diǎn)：對(duì)于300000級(jí)空氣凈化處理，可采用亞過(guò)濾器代替過(guò)濾器；空氣潔凈度100級(jí)、10000級(jí)及100000級(jí)的空氣凈化處理，應(yīng)采用初、中、過(guò)濾器三級(jí)過(guò)濾器；中效或空氣過(guò)濾器宜按小于或等于額定風(fēng)量選用；中效空氣過(guò)濾器宜集中設(shè)置在凈化空氣調(diào)節(jié)的正壓段；或亞空氣過(guò)濾器宜設(shè)置在凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)的末端。

絲印無(wú)塵車(chē)間方案及技術(shù)難題

絲印，一般即指絲網(wǎng)印刷。絲印由絲網(wǎng)印版、刮板、油墨、印刷臺(tái)以及承印物五大要素構(gòu)成，其中油墨和相關(guān)的溶劑都是化學(xué)品，容易揮發(fā)，且都屬于易燃品。所以在絲印無(wú)塵車(chē)間設(shè)計(jì)時(shí)，一定要非常關(guān)注防火和排風(fēng)問(wèn)題。

整體上來(lái)說(shuō)，絲印無(wú)塵車(chē)間與其他工業(yè)無(wú)塵車(chē)間的差異并不大，通過(guò)氣流組織和塵埃控制，達(dá)到萬(wàn)級(jí)或者十萬(wàn)級(jí)即可。以氣流--初效空氣處理--空氣調(diào)節(jié)--中效空氣處理--風(fēng)機(jī)加壓送風(fēng)--凈化送風(fēng)管道--送風(fēng)口--帶走塵土（）-- 回風(fēng)夾道--新風(fēng)、初效空氣處理為凈化工作原理，以十萬(wàn)級(jí)為例，換氣次數(shù)為10—15次每小時(shí)即可，相對(duì)濕度控制為45%到65%，新風(fēng)補(bǔ)償量占據(jù)總送風(fēng)量的20%到30%，照度大于300LUX。

按照以上凈化標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行設(shè)計(jì)，即可達(dá)到絲印無(wú)塵車(chē)間的凈化要求。實(shí)則不然，絲印無(wú)塵車(chē)間有其非常明顯的特點(diǎn)，除此之外，關(guān)鍵在于排風(fēng)。