實(shí)現(xiàn)潔凈度要求的通風(fēng)措施

潔凈室要達(dá)到潔凈等級(jí)，必須有綜合措施，其中包括工藝布置、建筑平面、建筑構(gòu)造、建筑裝修、人員和物料凈化、空氣潔凈措施、維護(hù)管理等。其中空氣潔凈措施是實(shí)現(xiàn)潔凈等級(jí)的根本保證。就空氣潔凈而言，主要有以下幾項(xiàng)具體措施 [1] ：

（1） 對(duì)潔凈室的送風(fēng)必須是有很高潔凈度的空氣。因此，必須選用或亞過(guò)濾器（潔凈級(jí)別低時(shí)）作為終端過(guò)濾器，對(duì)進(jìn)入潔凈室的空氣，進(jìn)行后一級(jí)過(guò)濾。為保護(hù)終端過(guò)濾器和延長(zhǎng)其壽命，必須使空氣先經(jīng)中效過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾。

（2） 根據(jù)潔凈室的等級(jí)，合理選擇潔凈室的氣流分布流型，在工作區(qū)應(yīng)避免渦流區(qū)；盡量使送入房間的潔凈度高的空氣直接到達(dá)工作區(qū)；氣流的流動(dòng)有利于潔凈室內(nèi)的微粒從回風(fēng)口排走。

（3） 有足夠的風(fēng)量，既為了稀釋空氣的含塵濃度，又保證有穩(wěn)定的氣流流型。

（4）不同等級(jí)的潔凈室、潔凈室與非潔凈室或潔凈室與室外之間均應(yīng)保持一定的正壓值。

潔凈室氣流組織考慮原則

（1） 當(dāng)產(chǎn)品要求潔凈度為100級(jí)時(shí)，選用層流流型；當(dāng)產(chǎn)品要求潔凈度為1000~100000級(jí)時(shí)，選用亂流流型。

（2） 減少渦流，避免把工作區(qū)以外的污染物帶入工作區(qū)。

（3） 為了防止灰塵的二次飛揚(yáng)，氣流速度不能過(guò)大。亂流潔凈室的回風(fēng)口不應(yīng)設(shè)在工作區(qū)的上部。宜在地板上或側(cè)墻下部均勻布置回風(fēng)口。

（4） 工作區(qū)的氣流應(yīng)均勻，流速必須滿(mǎn)足工藝和衛(wèi)生的要求；潔凈氣流應(yīng)盡可能把工作部位圍罩起來(lái)，使污染物在擴(kuò)散之前便流向回風(fēng)口。

（5） 工作設(shè)備布置時(shí)要留有一定的間隔，為送、回風(fēng)口的布置和氣流的通暢創(chuàng)造條件：氣流組織設(shè)計(jì)時(shí)要考慮高大設(shè)備對(duì)氣流組織的影響。

（6） 潔凈工作臺(tái)不宜布置在層流潔凈室內(nèi)。當(dāng)布置在亂流潔凈室時(shí)，宜將其置于工作區(qū)氣流的上風(fēng)側(cè)，以提高室內(nèi)的空氣潔凈度。

（7） 潔凈室內(nèi)有通風(fēng)柜時(shí)，宜置于工作區(qū)氣流的下風(fēng)側(cè)，以減少對(duì)室內(nèi)的污染。 [2]

潔凈室的負(fù)荷特點(diǎn)和節(jié)能

一般情況下，凈化空調(diào)系統(tǒng)的能耗比一般空調(diào)系統(tǒng)的能耗大的多。其原因是兩者之間的負(fù)荷特點(diǎn)不同。就潔凈室，尤其是半導(dǎo)體工業(yè)潔凈室而言，其負(fù)荷特點(diǎn)是：由于排風(fēng)量大造成新風(fēng)量大，故新風(fēng)處理所需冷量消耗大；送風(fēng)量大，輸送動(dòng)力消耗大，風(fēng)機(jī)管道溫升高；生產(chǎn)設(shè)備的發(fā)熱量大，消耗冷量大。這三項(xiàng)負(fù)荷之和一般占總負(fù)荷的70%~95%。因此，凈化空調(diào)系統(tǒng)節(jié)能措施應(yīng)從減少新風(fēng)量（減少排風(fēng)量）；控制送風(fēng)量（合理確定換氣次數(shù)）；充分利用回風(fēng)量；選擇低阻力率的空調(diào)和凈化設(shè)備和可變風(fēng)量的風(fēng)機(jī)等入手。

無(wú)塵潔凈室主要之作用在于控制產(chǎn)品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產(chǎn)品能在一個(gè)良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造，此空間我們稱(chēng)之為無(wú)塵潔凈室。按照國(guó)際慣例，無(wú)塵凈化級(jí)別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標(biāo)準(zhǔn)的粒子數(shù)量來(lái)規(guī)定。也就是說(shuō)所謂無(wú)塵并非沒(méi)有一點(diǎn)灰塵，而是控制在一個(gè)非常微量的單位上。當(dāng)然這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對(duì)于光學(xué)構(gòu)造而言，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的負(fù)面影響，所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無(wú)塵是必然的要求。

伍.每立方米將小于0.5微米粒徑的微塵數(shù)量控制在3500個(gè)以下，就達(dá)到了國(guó)際無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)的A級(jí)。目前應(yīng)用在芯片級(jí)生產(chǎn)加工的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)對(duì)于灰塵的要求高于A級(jí)，這樣的高標(biāo)主要被應(yīng)用在一些等級(jí)較高芯片生產(chǎn)上。微塵數(shù)量被嚴(yán)格控制在每立方米1000個(gè)以?xún)?nèi)，這也就是業(yè)內(nèi)俗稱(chēng)的1K級(jí)別。