潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)濕度范圍為35—45%。

氣壓規(guī)定

對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則：

1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。

2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。

壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。

防靜電

潔凈室中由于靜電引起的的事故屢有發(fā)生，因此潔凈室的防靜電能力如何已成為評價其質(zhì)量的一個不可忽視的方面。

所謂靜電，是由于摩擦等原因破壞了物體中正(+)負清潔要求

（1）清潔潔凈室內(nèi)的墻時應使用潔凈室無塵布；

（2）用90%去離子水和10%的異丙醇配置清潔劑；

（3）使用已獲批準的潔凈室專用去污劑；

（4）每天都要檢查車間和整備間的垃圾箱，并及時清走。

（5）每塊地板都要吸塵。每次交接班時，都應在地圖上標明工作完成情況，例如在哪結(jié)束從哪開始。

（6）清潔潔凈室的地面應使用專用拖把。

（7）在潔凈室里吸塵應使用帶有過濾器的專用真空吸塵器。

（8）所有的門都需要檢查并擦干

（9）吸完地以后再擦地。一周擦一次墻面。

（10）架空地板下也要吸塵及擦拭。

（11）三個月擦一次架空地板底下的柱子和支撐柱。

（12）工作時一定要記住，永遠是由上往下擦，從離門遠的地方向門的方向擦。