潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產濕度范圍為35—45%。

氣壓規(guī)定

對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則：

1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。

2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。

壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。

無窗潔凈室的照明方式：

(1)一般照明

它指不考慮特殊的局部需要，為照亮整個被照面積而設置的照明。

(2)局部照明

這是指為增加某一指定地點（如工作點）的照度而設置的照明。但在室內照明由一般不單獨使用局部照明。

(3)混合照明

這是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《潔凈廠房設計規(guī)范》應占總照度的10%—15%，但不低干150LX。 單位被照面積上接受的光通量即是照明單位勒克斯(LX)。

國外潔凈室的強度要求，例如美國關于潔凈室的幾個標準的要求是．

人工光300lx有較好的效果，當工件精細程度更高時，500x也是允許的。對于要紅燈照明的地方，如電子行業(yè)的光刻車間，其照度一般為(25—501x)，

用天然光時可允許更高的照度，因而對工作是有利的，所以今后潔凈室的照明既采用人工光也采用天然光可能是有前途的，這也是為了節(jié)能而出現的一種動向。

化妝品凈化車間設計及廠房無塵車間裝修

化妝品并不是一個新興的行業(yè)，古代人民已經會使用各種化妝品來襯托自己的美麗?，F代化妝品行業(yè)源于化學工業(yè)，經過了礦物油時代、天然成分時代和零負擔時代?；瘖y品技術越來越先進，化妝品對皮膚的刺激也越來越少，對化妝品凈化車間的要求也在不斷提升。

普通敞開式空間，每立方米空氣中粉塵粒子的含量為500萬個，遠遠達不到化妝品的生產要求。為了符合車間無塵的標準，在廠房設計和配備上，要求將一定空間范圍內空氣中的粉塵、等污染物排除，并將車間的溫度、濕度、氣流和靜電等控制在一定范圍內，也就有了1萬級、10萬級、30萬級等凈化標準。

化妝品凈化車間在設計與安裝上有清晰的規(guī)則，原則上應當設置原料間，制作間，半成品存放間，灌裝間，包裝間，容器清潔、、干燥、存放間，倉庫，檢驗室，儲存間一般采用一萬級空氣凈化標準，其他實驗室、原料室、灌裝間更衣室等采用十萬級空氣凈化標準，各個取件封閉獨立，防止交叉污染，確保所有化妝品無污染，保證產品品質。