一、半導(dǎo)體制造行業(yè)
（一）行業(yè)基本情況
半導(dǎo)體產(chǎn)品可大致劃分為三大類：分立器件、集成電路與光電組件，其中集成電路就占了半導(dǎo)體近九成的比重，可謂半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重心所在。2000年以來，中國集成電路產(chǎn)業(yè)處于高速成長期。預(yù)計2008年-2010年這3年間，中國集成電路產(chǎn)業(yè)整體銷售收入的年均復(fù)合增長率將達到23.6%。到2010年，中國集成電路產(chǎn)業(yè)銷售收入將達到約2500億元。預(yù)計2010年-2015年，我國將以年均近20%速度向前發(fā)展，產(chǎn)業(yè)規(guī)模達到約6000億元，屆時中國將成為世界重要電路制造基地之一。2007年，我國半導(dǎo)體企業(yè)總數(shù)達700家左右，其中IC設(shè)計業(yè)500多家，IC制造業(yè)30多家，封裝測試業(yè)100多家。IC制造業(yè)企業(yè)已相對集中，主要分布在上海、北京、江蘇、浙江等省市，長江三角洲地區(qū)成為中國集成電路重鎮(zhèn)。
半導(dǎo)體分立器件廠家我國現(xiàn)有約200家。2007年分立器件產(chǎn)品的產(chǎn)量為2487.21億元，比2006年增長11.8%；銷售額835.1億元，比2006年增長15.9%。到2010年我國半導(dǎo)體分立器件產(chǎn)業(yè)銷售額將達到1300億元。
根據(jù)2007年污普數(shù)據(jù)，廣州市現(xiàn)有半導(dǎo)體企業(yè)16家，集成電路制造企業(yè)17家。據(jù)了解，目前廣州市半導(dǎo)體企業(yè)大都為中小型組裝部件企業(yè)，因此，本通告未將其納入重點監(jiān)管范圍。
（二）生產(chǎn)工藝
1.分立器件制造工藝
常見的雙極管（Bipolar）之一的NPN三級管主要生產(chǎn)工藝包括氧化、光刻、埋層、擴散、N型外延、隔離擴散、基區(qū)擴散、發(fā)射區(qū)擴散、A1金屬化、CVD鈍化層等步驟。
2.集成電路制造工藝
集成電路制造可大致分為各獨立的單元，如晶片制造、氧化、參雜、顯影、刻蝕、薄膜等。各單元中又可再分為不同的操作步驟，如清洗、光阻涂布、曝光、顯影、離子植入、光阻去除、濺鍍、化學(xué)氣相沉積等。
3.封裝工藝
晶片在制造工藝后進入封裝工藝，封裝指從晶片上切割單個芯片到后包裝的一系列步驟。在沖切中，用激光或金剛石鋸將單個芯片（或模片）從晶片上分離。然后通過錫焊或使用環(huán)氧樹脂將金屬結(jié)構(gòu)（如鉛）裱到芯片上。用混合溶劑或萜烴進行清洗。下一步是引線接合（插腳），使芯片的金屬化部分與封裝或框架連接起來。在封裝階段，用塑料或環(huán)氧樹脂做的密封包裝。在一些應(yīng)用中也使用陶瓷蓋。
半導(dǎo)體封裝生產(chǎn)工藝見下圖：
（三）污染物排放
半導(dǎo)體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。揮發(fā)性有機廢氣主要來源于光刻、顯影、刻蝕及擴散等工序，在這些工序中要用有機溶液（如異丙醇）對晶片表面進行清洗，其揮發(fā)產(chǎn)生的廢氣是有機廢氣的來源之一；同時，在光刻、刻蝕等過程中使用的光阻劑（光刻膠）中含有易揮發(fā)的有機溶劑，如醋酸丁酯等，在晶片處理過程中也要揮發(fā)到大氣中，是有機廢氣產(chǎn)生的又一來源。
與半導(dǎo)體制造工藝相比，半導(dǎo)體封裝工藝產(chǎn)生的有機廢氣較為簡單，主要為晶粒粘貼、封膠后烘烤過程產(chǎn)生的烘烤廢氣。
（四）控制要求
半導(dǎo)體制造工藝中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分。在工藝過程中，這些有機溶劑大部分通過揮發(fā)成為廢氣排放。目前，有機廢氣排放處理措施采用大風量低濃度，其處理一般采用吸附濃縮技術(shù)、等離子光解技術(shù)、或UV光解技術(shù)等等。
二、半導(dǎo)體制造行業(yè)廢氣處理工藝：
半導(dǎo)體制造行業(yè)廢氣預(yù)處理設(shè)備（根據(jù)具體項目及廢氣源實際工況，可能涉及到粉塵去除、水氣分離、高溫降溫處理、油膏油脂去除、酸堿水霧去除等相應(yīng)的預(yù)處理措施）等離子UV光解除臭廢氣凈化器高排
三、等離子UV光解除臭廢氣凈化器工作原理：
1、主要采用脈沖高頻高壓等離子體電源和雙介質(zhì)齒板放電裝置，放電形式產(chǎn)生高濃度離子。等離子體是一種聚集態(tài)物質(zhì)，其所擁有的高能電子能在毫秒級的時間內(nèi)，瞬間擊穿空氣和廢氣分子，發(fā)生一系列分化裂解反應(yīng)，產(chǎn)生高濃度、高強度、高能量的活性自由基和各種電子、離子等，在與機廢氣中的分子碰撞時會發(fā)生一系列基元物化反應(yīng)，并在反應(yīng)過程中產(chǎn)生多種活性自由基和生態(tài)氧，即臭氧分解而產(chǎn)生的原子氧。活性自由基可以有效地破壞各種病毒、中的核酸，蛋白質(zhì)，使其不能進行正常的代謝和生物合成，從而致其死亡；而生態(tài)氧能迅速將有機廢氣分子異味氣體分解或還原為低分子無害物質(zhì)；另外，借助等離子體中的離子與物體的聚合吸附作用，可以對小至亞微米級的細微有機廢氣顆粒物進行有效的吸附沉降處理。
2、利用特制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體的分子鍵，降解轉(zhuǎn)變?yōu)榈头肿踊瘜W(xué)物，如二氧化碳和水等物質(zhì)。
3、利用高能臭氧分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物。如CO2、H2O 等。 UV+O2O-+O*(活性氧)O+O2O3(臭氧)。
4、利用特制的TiO2二氧化鈦光觸媒催化氧化泡沫鎳過濾板，在UV紫外光的照射下，產(chǎn)生光觸催化反應(yīng)，極大地提升和加強了紫外光波的能量聚變，在更加高能地裂解廢氣和惡臭氣味分子的同時，催化產(chǎn)生更多的活性氧和臭氧，對廢氣和惡臭氣味進行更徹底地催化氧化分解反應(yīng)，使其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水分子和二氧化碳，從而達到脫臭及殺滅的目的；泡沫鎳既有金屬鎳耐高溫、抗腐蝕、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定的特征，又具有泡沫獨特的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，以它為基體，附載納米二氧化鈦開發(fā)而成的復(fù)合光催化泡沫金屬濾網(wǎng)繼承了泡沫鎳的所有優(yōu)點，超過95%的孔隙率保證了良好的空氣通透性，而在其包面分布均勻的光觸媒材料比表面積大，表面覆蓋率高，限度增大了與空氣和紫外線的接觸面，加之泡沫金屬的三維特性，使得光催化反應(yīng)腔飽滿，保證了其光催化效率.
5、除惡臭：能去除揮發(fā)性有機物（VOC）及各種惡臭味，脫臭效率可達99%以上。
6、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風管道和排風動力。
7、適應(yīng)性強：可適應(yīng)中低濃度，大氣量，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。