EUV光刻機是研制先進芯片的一條路徑,但并非唯一解。對于國內(nèi)廠商來說,當(dāng)前在3D NAND閃存的發(fā)展上,就因為不需要EUV機器,從而找到了技術(shù)追趕的機會。而在DRAM內(nèi)存芯片領(lǐng)域,盡管三星、美光、SK海力士找到的答案都是EUV,可來自浙江海寧的芯盟則開辟出繞過EUV光刻的新方案。